氣态分子(zǐ)污染物(AMC)已經成為(wèi)影響半導體産品質量的重要因素，機姐主要表現為(wèi)表面分子(zǐ)污染，這是由船月氣态分子(zǐ)和特定表面作用而形成非常薄的大上化學膜，化學膜通(tōng)常改變産品表面的物理、電長喝子(zǐ)、化學和光學特性而導緻質量缺陷，造成産品良品率下降。

AMC種類複雜，根據SEMI發布的标準中将AMC分為(wèi)四類:1.酸性分子(zǐ)污染物：如(rú)HF、SO2、CL2等;2.堿性分子(zǐ)污染物：如(rú)NH3等;3.有機化合物：如(rú)SiH4，碳氫化合物等;4.摻雜物：如(rú)磷（P)、硼(B）等。

AMC可能來源于無塵室外的汽車(chē)排氣、大(dà)氣臭氧、工(gōng)廠著上排放等，或是潔淨室内的化學溶劑揮發、蝕刻酸氣、塑料制品溢散等，由窗去于來源非常廣泛，污染物種類繁多，因此如(rú)何票紙進行有效防控已經成為(wèi)行業的一大(訊民dà)難題。 
考慮到内部和外部AMC污染源的濃度，半導體行業控制AMC需要從多方面來進行。首機作先對生産環境進行評估，确定環境中的氣态污染物種類和污染程度，然後定制污染控制方案，在新內美風處理機組（MAU）和風機過濾單元（FFU）上安裝化學過濾器(qì)，達到多重去除AMC的效果，為(wèi)了實時(shí)掌握AMC含量濃度，還需搭建AMC化學污染物在線監測系統，進行實時(shí)監測。

AMC化學污染物在線監測系統

半導體行業AMC控制是一項重要且複雜的任務，除了以上的控制措施，還應加強生産設備的維護和清潔，定期檢查和更換可能引起AMC污染的部件，提高對AMC控制的認識、了解AMC的影響，知道如(rú)何正确操作和維護設備以頻知減少AMC污染的可能性。此外，建立規範的操作流程和标準，确保每為也個生産步驟都符合AMC控制的要求，來有效降低(dī)AMC的濃度，保證半導體制造過程的穩定性和産品質量的生農可靠性。

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